Alpuim, P., Chu, V., & Conde, J. P. (2001). Doping of amorphous and microcrystalline silicon films deposited at low substrate temperatures by hot-wire chemical vapor deposition.
Citação do estilo Chicago (17ª ed.)Alpuim, P., V. Chu, e J. P. Conde. Doping of Amorphous and Microcrystalline Silicon Films Deposited at Low Substrate Temperatures by Hot-wire Chemical Vapor Deposition. 2001.
Citação MLA (8ª ed.)Alpuim, P., et al. Doping of Amorphous and Microcrystalline Silicon Films Deposited at Low Substrate Temperatures by Hot-wire Chemical Vapor Deposition. 2001.
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