Lithographic mask defects analysis on an MMI 3 dB splitter
PTDC/NAN-OPT/31311/2017 SFRH/BPD/102217/2014 IPL IDI&CA/2018/aSiPhoto.
Autor principal: | |
---|---|
Outros Autores: | , , |
Formato: | article |
Idioma: | eng |
Publicado em: |
2020
|
Assuntos: | |
Texto completo: | http://hdl.handle.net/10362/104752 |
País: | Portugal |
Oai: | oai:run.unl.pt:10362/104752 |
Resumo: | PTDC/NAN-OPT/31311/2017 SFRH/BPD/102217/2014 IPL IDI&CA/2018/aSiPhoto. |
---|