Lithographic mask defects analysis on an MMI 3 dB splitter

PTDC/NAN-OPT/31311/2017 SFRH/BPD/102217/2014 IPL IDI&CA/2018/aSiPhoto.

Detalhes bibliográficos
Autor principal: Lourenço, Paulo (author)
Outros Autores: Fantoni, Alessandro (author), Costa, João (author), Vieira, Manuela (author)
Formato: article
Idioma:eng
Publicado em: 2020
Assuntos:
Texto completo:http://hdl.handle.net/10362/104752
País:Portugal
Oai:oai:run.unl.pt:10362/104752
Descrição
Resumo:PTDC/NAN-OPT/31311/2017 SFRH/BPD/102217/2014 IPL IDI&CA/2018/aSiPhoto.