Cristea, D., Constantin, D. G., Crisan, A., Abreu, C. S., Gomes, J. R., Barradas, N. P., . . . Cunha, L. (2013). Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: The influence of processing parameters.
Citação do estilo Chicago (17ª ed.)Cristea, D., et al. Properties of Tantalum Oxynitride Thin Films Produced by Magnetron Sputtering: The Influence of Processing Parameters. 2013.
Citação MLA (8ª ed.)Cristea, D., et al. Properties of Tantalum Oxynitride Thin Films Produced by Magnetron Sputtering: The Influence of Processing Parameters. 2013.
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