Deposição de diamante CVD sobre nitreto de silício por filamento quente
O presente trabalho foi dedicado ao desenvolvimento no Departamento de Cerâmica e do Vidro, de um equipamento de deposição de filmes de diamante CVD (“Chemical Vapour Deposition”) sobre substratos cerâmicos e metálicos utilizando o método do filamento quente. O diamante possui propriedades mecânicas...
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | masterThesis |
| Idioma: | eng |
| Publicado em: |
1000
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| Assuntos: | |
| Texto completo: | http://hdl.handle.net/10773/23752 |
| País: | Portugal |
| Oai: | oai:ria.ua.pt:10773/23752 |