Deposição de diamante CVD sobre nitreto de silício por filamento quente

O presente trabalho foi dedicado ao desenvolvimento no Departamento de Cerâmica e do Vidro, de um equipamento de deposição de filmes de diamante CVD (“Chemical Vapour Deposition”) sobre substratos cerâmicos e metálicos utilizando o método do filamento quente. O diamante possui propriedades mecânicas...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Tallaire, Alexandre Jean-Baptiste (author)
Format: masterThesis
Language:eng
Published: 1000
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/10773/23752
Country:Portugal
Oai:oai:ria.ua.pt:10773/23752