| Summary: | Introdução: A colocação de implantes dentários tornou-se um procedimento cirúrgico muito comum nas últimas décadas. A região maxilar posterior, devido à diminuição da altura e baixa densidade óssea, pode ser um fator limitante para esse tratamento. Em alguns casos, é necessário elevar o seio maxilar antes da colocação do implante. A membrana de Schneider pode ser perfurada durante a preparação da osteotomia ou no momento da perfuração da mesma, ou da colocação direita do implante no seio maxilar. Objetivo: O objetivo principal desta revisão sistemática integrativa foi avaliar as perfurações da membrana de Schneider durante a elevação do seio maxilar ou colocação de implantes, sua prevenção e gestão das complicações. Matérias e Métodos: Foi realizada uma pesquisa bibliográfica nas seguintes bases de dados: “PubMed” e “ScienceDirect”, utilizando a seguinte combinação de palavras-chaves: «perforation», «maxillary sinus floor augmentation», «Complications», «dental implant», «maxillary sinus», «schneider membrane». Resultados/discussão: Uma membrana de 0-2 mm de espessura pode ser um fator importante determinante de perfuração, independentemente do procedimento utilizado. Várias técnicas de tratamento e marcas de membranas bio absorvíveis poderão ser usadas para o tratamento das perfurações. Conclusão: O Dentista deve selecionar a técnica a ser utilizada de acordo com a necessidade clínica, lidando com cada caso específico. O CBCT provou ser uma ferramenta útil para avaliar as variações anatômicas do seio maxilar. A perfuração da membrana sinusal pode ocorrer a qualquer momento durante o procedimento, independentemente do método cirúrgico utilizado.
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